第195章浸润式光刻专利证书到手

还有人红了眼眶，用力拍著身边同事的肩膀，一句话都说不出来。

林本健死死盯著屏幕上的专利號，手指紧紧攥成了拳，长长地舒了一口气。

整整18个月，熬了无数个通宵，改了上百版技术方案。

绕开了尼康、asml、台基电已经註册的上千项相关专利。

终於拿到了这项核心专利的全球授权。

他没有耽误一秒钟，立刻拿起桌上的固定电话，拨通了陈启文的號码。

电话响了一声，就被接了起来。

“陈总！成了！”林本健的声音里，带著抑制不住的激动：

“我们的浸润式光刻核心专利，正式通过全球终审授权！

专利证书今天正式下发，法律层面正式確权完成。”

电话那头，陈启文正在看新收购晶圆厂的產能调试报告。

听到这个消息，平静的脸上也忍不住露出喜意。

这项专利，是他去年就让林本健带队启动的研发项目。

2003年这个时间点，全球光刻技术正处在关键的十字路口。

乾式光刻技术已经逼近物理极限。

想要突破0.18μm以下的製程，必须靠浸润式光刻技术。

asml和尼康，正在为了浸润式光刻的技术路线，打得头破血流。

台基电是asml最大的客户，也是浸润式光刻技术的首批合作方，手里握著大量的配套专利。

启文想要在高端製程上追平台基电，想要拿到asml的高端光刻机。

就必须有自己的核心专利，有跟asml谈判的筹码。

现在，筹码终於握在手里了。

“做得好，林总。”陈启文的语气里，满是肯定：

“替我谢谢研究院的所有人，这个月，全员三倍奖金，核心研发团队额外奖励五百万新台幣。”

“谢谢陈总！”林本健胸口的激动更甚，连忙应声，又立刻补充道：

“陈总，专利正式確权，我们之前和asml签的战略合作框架协议，附生效条件已经达成。

即日起可以全面落地执行。”

早在一年前，专利还在申请流程中时，asml就已经主动找上门，和启文谈妥了专利交叉授权、光刻机优先供货、联合研发三大核心条款。

只是当时专利尚未確权，协议只能是框架性的，附了“专利正式授权后生效”的前提条件。

这一年多来，启文半导体的製程升级，一直被台基电死死卡著脖子。

启文现有晶圆厂的主力量產製程，一直停留在250nm。

不是没有技术能力升级180nm，实验室一直都在研发升级。

但问题是拿不到足够的先进位程光刻机。

2003年的全球光刻机市场，180nm乾式光刻机的產能，几乎全被asml和尼康把持。

台基电作为尼康、asml全球第一大客户，占据了亚太区近六成的高端设备配额。

更是靠著行业龙头的地位，暗中给施压，死死卡住启文的设备订单。

过去一年里，启文先后三次向asml和尼康下单180nm製程的pas 5500光刻机。

要么被无限延后交货期，从承诺的6个月拖到18个月。

要么直接被台基电的插队订单挤掉配额。